AF抗指纹镀膜-东莞仁睿电子科技-AF抗指纹镀膜价钱
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在沉积过程中，每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技术各有优缺点，这里不作讨论。其共同点是材料蒸发时它们均在真空中使用，因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。若是空气的折射率是 1.0 ，镀膜的折射率nc (例如：1.5) ，玻璃的折射率n (例如：1.8)（1）由空气直接进入玻璃
汽化相对温和的性质会生成松散或多孔的镀膜。这些松散的镀膜存在吸水问题，这会改变层的有效折射率并导致性能下降。蒸发沉积过程中不能控制蒸发，因此不能像使用离子束溅射等其他技术那样控制层厚度。不过，这些松散的镀膜的优点是它们相对来说没有压力。使用离子束辅助沉积（IBAD 或 IAD）可以增强蒸发镀膜，离子束直接作用于基片表面，增加源材料与表面的粘附能量，并生成更致密、更坚固的镀膜。
常见镀膜种类包含增透膜，宽带增透膜，介质高反膜，金属反射膜，金属加强膜，金属导电膜，透明导电膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。根据产品需求可进行膜层选择。常见选用的镀膜材料一般是氟化镁、二氧化硅、氧化锆等其透光度约为85%左右。若加上一层镀膜（折射率1.5），则透光度可达91%。可见光学镀膜的重要性。
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